能夠以特殊方式與光進行互動的納米結構材料可製備一系列新型光學器件，如納米塗層太陽能電池、光學計算機、隱身斗篷等。一種新的製備方法能夠更加容易地設計、製造大尺寸的片狀超材料。
爲挖掘在利用可見光或紅外線的成像和通信領域的潛在應用，研究人員利用金屬和半導體材料製備了具有致密、錯綜複雜的納米圖案的超材料。該類材料的製備通常利用過程緩慢且價格昂貴的電子束光刻或離子束光刻等技術。據哈佛大學George M. Whitesides 實驗室的研究員Alex Nemiroski 介紹，光刻技術能夠更快速地製備超材料，但是其分辨率較低且不能形成高密度、有序的圖案。爲了加快創新的步伐，研究人員需要具備快速製備光刻樣機並測試超材料的設計的能力，企業需要擁有快速製備大尺寸材料的工藝。
Nemirosk 通過調整現有技術中的陰影投射光刻技術，研發出了一種更快、更通用的超材料製備方法——利用一個簡單的模板( 通常由緻密的納米球製成) 來阻礙物理氣相沉積( PVD) 腔室中的原子沉積，他認爲，在沉積過程中多次改變原子源的位置可以創建更復雜的圖案。
這種新的方法被稱爲陰影納米球光刻技術。研究人員先向水中滴入直徑爲1 μm 的聚苯乙烯微球，利用靜電作用使其團聚，然後將團聚的微球置於硅片的表面並乾燥。如有需要，可對硅片上的微球進行蝕刻以獲得更小尺寸的聚苯乙烯微球。接下來，研究人員將硅片放入PVD 腔室中， 對所選擇的材料進行沉積。在原子沉積到硅片表面的過程中，聚苯乙烯微球阻礙了部分原子的沉積路徑。爲獲得特定的'納米尺度結構，可以通過改變沉積源角度的方法，從一個陰影圖案開始，重複沉積不同的圖案。利用該技術，哈佛大學的研究團隊利用銅、鈦和其他金屬製備了一系列圖案化超材料。這些樣板材料的曲率半徑低至10 nm。
Nemiroski認爲半導體材料和電解質材料均可用來製備該類超材料。Nemiroski 開發設計了控制沉積過程的軟件，它不僅能夠自動生成沉積源的移動序列，並根據所要求的圖案限定微球的尺寸，還能夠預測最終所得材料的光學性質。
伊利諾伊大學香檳分校從事利用新型光刻技術製備超材料研究的材料學家Paul V. Braun 表示：“ 我從來沒有想到， 可以利用這些自組裝膠體來創建複雜的結構。”據他介紹，超材料所檢測到的光學性能與哈佛大學軟件預測的一致，表明該製備方法切實可行。
此外，Braun 還指出聚苯乙烯微球具有一定的缺陷，它們不能完美地堆積，導致最終所得材料也存在缺陷。Nemiroski 表示哈佛大學的研究團隊目前正在研究這一問題。